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第一百零六章 1纳米光刻机

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    第一百零六章 1纳米光刻机 (第3/3页)

大,制作1纳米芯片需要更好的原材料。”

    白涟皱眉问道:“国内又没有对吗?”

    “是的先生,晶圆片和光刻胶国内并没有更高等级的产品可以替代。”

    “哎,先采购吧,如果对方不卖我们再优化生产工艺。”

    大清晚亡了一百年,国内的技术更新已经很快了,但无法做到全面发展。白涟也担心狗急跳墙,还是等一波对面的态度再说。

    “先生,新的芯片底层架构,设计完毕。”

    白涟翻看了一下架构设计,64位元精简指令集,集成式中央处理器架构,在基础上还可以按照需求来增加多芯片架构。对嵌入式和分布式的系统都能做到非常出色的工业要求。

    “将光刻机的性能发给陈总吧,然后把需要申请的专利发给法律部吧。”

    “已经发送。”

    ·········

    陈庆远在办公室接听着许多人打过来的询问电话,都是国内半导体行业的领头企业,他们对光刻机的性能非常好奇!

    “你好孟总,稍后我们会在官网公布光刻机的具体性能,稍等一下。”

    看到白涟发过来的性能测试表,陈庆远松了一口气,连忙让人更新官网信息!一时间这份光刻机性能测试表传遍了全球半导体行业圈子。

    “真的假的?“星浩”也开始造假了?”

    “看测试表像是真的,那么详细,各种元器件的制作流程都写的很清楚。”

    “楼上一看就不懂,制作流程这种机密的事怎么可能写在测试报告上,肯定是假的。一看就是老战忽局了!”

    “我看也是假的,国外的1纳米光刻机也还只是测试组装,国内技术一直都不如国外,肯定是骗人的。”

    “楼上老二G子了,拍照留念!”

    “二G子+1”

    “二G子+2”

    “二G子+.....”
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